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气体净化纯化设备

小型气体净化机气体净化纯化设备气体配比设备变压吸附制氮装置氨分解制氢装置气体回收系统
全自动氩气/氦气纯化设备

►关于氩气/氦气纯化的方法:

 ■第一种

 直接脱氧法。就是使用活性金属、催化剂与氩气/氦气中的氧气进行反应,消化掉氩气/氦气中的氧气,从而达到脱氧的目的,经过分子筛吸收掉氩气/氦气中的水份和二氧化碳,使氩气/氦气的含水量小于1 ppm;

■第二种

是采用吸气剂。在一定温度下,吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后,净化后纯度可达到6N\7N\8N\9N,这种工艺生产出来的高纯气体适用于各类仪器仪表适用要求。


►技术参数:

■ 处理气量:5~2000Nm3/h(可根据用户需要订做非标设备)

■ 原料气要求:液氩/液氦或者较好的管道氩/氦均可使用

■ 工作压力0.2-1.6MPa可调

     介质    

    原料气    

 纯化后

                                          纯化后杂质                                      

   备注 

Ar/He

≥99.99%

 6N

O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 、H2≤1ppm;颗粒≤0.1μm


Ar/He

≥99.999%

 7N

O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2  、H2≤100ppb;颗粒≤0.003μm


Ar/He

≥99.9999%

 8N

O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 、H2 ≤10ppb;  颗粒≤0.003μm


Ar/He

≥99.99%

 6N

O2、H2O、CO2                             ≤1ppm;  颗粒≤0.1μm

不除氮和甲烷

Ar/He

≥99.999%

 7N

O2、H2O、CO2                            ≤100ppb;颗粒≤0.003μm

不除氮和甲烷

Ar/He

≥99.9999%

 8N

O2、H2O、CO2                            ≤10ppb;  颗粒≤0.003μm

不除氮和甲烷



►用途:

       用于高纯气体充装站、焊接、不锈钢制造、冶炼,还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气、填充气体、真空检漏、气相色谱分析的载气。