►关于氩气/氦气纯化的方法:
■第一种
直接脱氧法。就是使用活性金属、催化剂与氩气/氦气中的氧气进行反应,消化掉氩气/氦气中的氧气,从而达到脱氧的目的,经过分子筛吸收掉氩气/氦气中的水份和二氧化碳,使氩气/氦气的含水量小于1 ppm;
■第二种
是采用吸气剂。在一定温度下,吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后,净化后纯度可达到6N\7N\8N\9N,这种工艺生产出来的高纯气体适用于各类仪器仪表适用要求。
►技术参数:
■ 处理气量:5~2000Nm3/h(可根据用户需要订做非标设备)
■ 原料气要求:液氩/液氦或者较好的管道氩/氦均可使用
■ 工作压力0.2-1.6MPa可调
介质 | 原料气 | 纯化后 | 纯化后杂质 | 备注 |
Ar/He | ≥99.99% | 6N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 、H2≤1ppm;颗粒≤0.1μm | |
Ar/He | ≥99.999% | 7N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 、H2≤100ppb;颗粒≤0.003μm | |
Ar/He | ≥99.9999% | 8N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 、H2 ≤10ppb; 颗粒≤0.003μm | |
Ar/He | ≥99.99% | 6N | O2、H2O、CO2 ≤1ppm; 颗粒≤0.1μm | 不除氮和甲烷 |
Ar/He | ≥99.999% | 7N | O2、H2O、CO2 ≤100ppb;颗粒≤0.003μm | 不除氮和甲烷 |
Ar/He | ≥99.9999% | 8N | O2、H2O、CO2 ≤10ppb; 颗粒≤0.003μm | 不除氮和甲烷 |
►用途:
用于高纯气体充装站、焊接、不锈钢制造、冶炼,还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气、填充气体、真空检漏、气相色谱分析的载气。
。