►本公司生产的氮气纯化设备的三种典型工艺:
■ RZ-DYC- I型氮气纯化设备(加氢催化除氧型):原料氮气纯度:99.9%,且氮气中含有0.5%氢杂质的工艺,采用高效催化剂加氢除氧,不需活化,除氧范围广,适用于含氧量较高对过量氢不作要求的工艺生产;
■ RZ-DYC- II型氮气纯化装置(碳脱氧型):原料氮氧含量小于5000ppm时,使用碳脱氧剂除氧,成品氮气纯度高且不含氢,但是除氧器需定期添加消耗掉的碳脱氧剂;
■ RZ-DYC- III型氮气纯化装置(化学脱氧型):原料氮氧含量小50ppm时,使用高效脱氧剂除氧,氮气纯度高且不含氢,但是除氧器需定期通氢加热再生;
注:可根据用户不同的原料气指标和产品要求,采用不同工序满足客户特殊需求。
►技术参数:
■ 处理气量:1~2000Nm3/h(可根据用户需要订做非标设备);
■ 原料气要求:液氮/液氮或者较好的管道氮均可使用,PSA制取氮气只适用于只做5N;
■ 工作压力0.2-1.6MPa可调;
介质 | 原料气 | 纯化后 | 纯化后杂质 | 备注 |
氮气 | ≥99.9% | 5N | O2、H2O、CO2、 ≤3ppm;颗粒≤0.1μm | PSA气源 |
氮气 | ≥99.99% | 6N | O2、H2O、CO2、 ≤0.1ppm;颗粒≤0.003μm | 液氮 |
氮气 | ≥99.99% | 6N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、H2 ≤1ppm;颗粒≤0.003μm | 液氮 |
氮气 | ≥99.999% | 7N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、H2 ≤100ppb; 颗粒≤0.003μm | 液氮 |
氮气 | ≥99.999% | 8N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、H2 ≤10ppb; 颗粒≤0.003μm | 液氮 |
►本公司生产的氮气纯化装置应用领域:
• 电子工业:大规模集成电路、彩电显像管、电子元件及半导体处理
• 玻璃工业:浮法玻璃生产中的气体保护
• 化学工业:覆盖、惰性气体保护、压力传输、油漆、食用油搅拌
• 化肥工业:氮肥原料,触媒保护,洗涤气
• 石油工业:氮气钻井、油井维修、精炼、天然气回收
• 文物保护:文物、丝织品、书画、青铜器等的惰性气保护
• 食品工业:食品包装、啤酒保鲜、非化学消毒、水果和蔬菜保鲜
• 橡胶工业:交联电缆生产和橡胶制品生产防老化保护
• 医药工业:药品充氮包装、运输和保护,药料气动传输
• 医药工业:药品充氮包装、运输和保护,药料气动传输
•热处理:光亮淬火、光亮退火、渗碳、可控气氛、粉末金属烧结
• 煤炭工业:煤矿防灭火,煤矿中的瓦斯气置换
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